精密拋光用超低震動直接驅動系統
 Direct Drive for Wafer Polishing

最平穩、最適合拋光的驅動系統

概 述

本系統採用美國 UNICO向量控制變頻器中最高級之2400系列,在超低轉速區帶(50 RPM)具有安定平穩的控制性能與極低之漣波比,轉速穩定度可達 0.1 RPM,符合晶圓拋光對低振動之嚴格需求。

以晶圓拋光為例,本系統共控制三台馬達:拋光盤及晶圓轉盤。晶圓拋光對轉速精度要求極高,拋光盤的轉速對晶圓移除率的影響甚為密切,不當的機械作用力更會造成刮傷。

UNICO 在複數馬達間之精確連動控制性能可完全掌握拋光盤與晶圓間的相對旋轉速度,並可充份搭配複極馬達,將轉矩漣波比控制在 0.003 以下,為晶圓拋光提供良好的轉速控制基礎。

系統設計:UNICO 日本分公司


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